Prof. Dr. Martin Gutsche

IMP Institut für Mikrotechnik und PhotonikProfessor für Mikrotechnik, Leiter Kompetenzbereich Prozesstechnologie

+41 58 257 34 68martin.gutsche@ost.ch

Curriculum Vitae

Dr. Martin Gutsche ist seit August 2005 als Leiter Prozesstechnologie am Institut für Mikrotechnik und Photonik der OST tätig. Sein Hauptinteresse gilt der Prozess- und Materialtechnologie für die Herstellung mikrotechnischer Systeme. Zuvor war Martin Gutsche bei Infineon Technologies in München langjährig als Projektmanager für die Entwicklung von High-k Materialien zuständig, bevor er dann zum Schluss seiner Industrietätigkeit als Manager für Benchmarking von DRAM-Speicher-Technologie verantwortlich zeichnete. Er initiierte bei Infineon die Beschichtungstechnik der Atomic Layer Deposition (ALD). Von 1996 bis 1998 arbeitete Martin Gutsche als Long Term Delegate für Siemens Microelectronics in der gemeinsam mit IBM geführten DRAM-Entwicklungsallianz in Fishkill und Yorktown, NY, USA, auf dem Gebiet der Plasmaätztechnologie für Halbleiteranwendungen. Martin Gutsche promovierte in Physik an der Technischen Universität München. Er ist Autor bzw. Koautor von über 30 technischen Publikationen und hält mehr als 40 Patente.

Kompetenzprofil

  • Prozesstechnologie
  • Dünnschicht- und Beschichtungstechnik
  • Mikrostrukturierung und Plasmaätzen
  • Halbleitertechnik
  • Industrieprojekte
Verfasser/inTitelJahrArt der Arbeit
Marco Giordano Aluminum Nitride Deposition via HiPIMS Without External Heating 2024Masterarbeit
Raphael Mayenknecht,
Michiel Sameli
Schichtdickensensor zur Detektion von Schichtablagerungen in Prozesskammern 2023Bachelorarbeit
Michael Zürcher Entwicklung eines Hochtemperatur-Durchflussmessers für Temperiergeräte 2017Bachelorarbeit
Fabian Büchel Automatic Optical Inspection (AOI) für einen Gas- bzw. Flow-Sensor 2016Bachelorarbeit
Demian Henzen Diffusionswellenleiter in Dünnglas für die Photonik 2016Bachelorarbeit
Andreas Halter,
Florian Neff
Resonanter Dichtesensor aus Silizium 2016Bachelorarbeit
Kay Ackermann Magnetgreifer 2015Bachelorarbeit
Admir Asanoski Maskenloses Belichtungsverfahren für die Fotolithographie 2015Bachelorarbeit
Melanie Spirig,
Stefan Elsner
Prozessentwicklung zur Strukturierung metallischer Schichten mittels Trockenätzen 2015Bachelorarbeit