Prof. Dr. Martin Gutsche

Curriculum Vitae

Dr. Martin Gutsche ist seit August 2005 als Leiter Prozesstechnologie am Institut für Mikrotechnik und Photonik der OST tätig. Sein Hauptinteresse gilt der Prozess- und Materialtechnologie für die Herstellung mikrotechnischer Systeme. Zuvor war Martin Gutsche bei Infineon Technologies in München langjährig als Projektmanager für die Entwicklung von High-k Materialien zuständig, bevor er dann zum Schluss seiner Industrietätigkeit als Manager für Benchmarking von DRAM-Speicher-Technologie verantwortlich zeichnete. Er initiierte bei Infineon die Beschichtungstechnik der Atomic Layer Deposition (ALD). Von 1996 bis 1998 arbeitete Martin Gutsche als Long Term Delegate für Siemens Microelectronics in der gemeinsam mit IBM geführten DRAM-Entwicklungsallianz in Fishkill und Yorktown, NY, USA, auf dem Gebiet der Plasmaätztechnologie für Halbleiteranwendungen. Martin Gutsche promovierte in Physik an der Technischen Universität München. Er ist Autor bzw. Koautor von über 30 technischen Publikationen und hält mehr als 40 Patente.

Kompetenzprofil

• Prozesstechnologie
• Dünnschicht- und Beschichtungstechnik
• Mikrostrukturierung und Plasmaätzen
• Halbleitertechnik
• Industrieprojekte